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玻璃真空镀膜

LEYBOLD OPTICS GLC H series

莱宝光学 GLC H 玻璃真空镀膜机通过磁控溅射将低辐射、阳光控制和其他先进功能镀膜应用于玻璃。专为高生产率、高质量标准和快速适应需求而设计。

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主要优点

减少能耗

高质量和新能源效率标准组件,如电源或泵,可实现镀膜机的低能耗。优化的阴极室设计可进一步节省能耗,且不会影响高沉积速率。

满足您所有的镀膜需求

从低辐射、阳光控制到减反射和其他功能镀膜,莱宝光学 GLC H 可满足您所有的镀膜需求。其模块化设计可轻松更换磁控管,更改泵配置或进行扩容。

可提高 25% 生产率

独特的间隙管理使两个连续基底之间的距离仅仅为 30 mm,可提高镀膜效率,节约靶材。此外,由于镀膜机交叉污染情况少,可尽可能地延长清洗间隔。

突出特点

高品质应用

高沉积速率

磁控溅射室内独特的布气系统可实现理想的膜层均匀性及在反应和非反应过程中均实现高沉积速率。这可避免反应气体 O2 或 N2 造成靶材中毒,实现高生产率。

正常运转时间长

延长清洁周期之间的生产时间

通过将间隙减少至 30 mm 实现靶材的高收集效率,确保传送系统和内部屏蔽的交叉污染非常低。这与优化靶材利用和先进过程控制技术(如远程可调磁棒)相结合,获得很高的产品质量,并延长生产时间。

尽可能缩短停机时间

缩短维护时间

核心组件的模块化设计、符合人体工学和易于维护的布局大大减少了清洁和常规维护期间的机器停机时间。

用于入口、缓冲、传送和出片室的可选液压盖可避免需要重型高架起重机和额外的存储空间,使莱宝光学 GLC H 系列在运营成本和地面空间利用方面更具优势。

莱宝光学 GLC H 镀膜机可与多种 PLC 接口兼容,使您可将过程控制系统连接至工厂的网络。集成到制造执行系统 (MES)、自动化和数据管理系统是我们产品组合的一部分,帮助您优化价值链。

两个标准尺寸可供选择,适用于 US (2590 x 4200 mm²) 和 JUMBO (3300 x 6100 mm²) 玻璃。标准玻璃传送系统可涵盖所有建筑玻璃尺寸,厚度从 2 mm 至 19 mm,玻璃样式(PLF、DLF、切割和形状)和加载场景,如多批次和混合模式。腔室组合模式选择可处理特殊应用的超长玻璃尺寸。

莱宝光学 GLC H 可提供两种不同的镀膜机配置。对于每年 200 万至 900 万 m² 中小型产量,单一入口/出口腔室配置是理想之选。而对于每年 500 万至 2200 万 m² 大中型产量,则可选择两级入口/出口腔室配置。模块化设计可对镀膜机进行灵活升级。

关键主题

每天,数以亿计的人们都在享用布勒技术,以满足自己在食品、交通出行以及更多领域的日常所需。我们的座右铭是“布勒创新,驱动未来”。了解有关我们关键主题的更多信息。

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