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用于高精度膜层的溅射设备

HELIOS series

布勒 HELIOS 溅射镀膜机专为满足薄膜制备的高要求而设计。适用于线性激光、深度截止滤光片和陷波滤光片、激光器和啁啾镜、偏振片、分束器、生物传感器和 ADAS 传感器或消费电子产品。

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主要优点

创新等离子体辅助反应式磁控溅射 (PARMS) 技术

HELIOS 镀膜机采用 PARMS 工艺技术,即等离子体辅助反应式磁控溅射。此技术可在原子级控制很薄的镀膜,旨在生产顶级产品和实现高产量。

为直接光学监控树立标杆

HELIOS 可实现理想的工艺和生产稳定性。可以精确镀制超薄层。

设立新的性能标准

HELIOS 为膜层超过 200 层或厚度超过 20 µm 的滤光片设立了新的标杆。有助于获得合适的氧化物薄层、较高的膜层密度和很低的膜层损耗,所有这些都是达到高激光镀膜损伤阈值、低散射和高反射率的关键。

突出特点

PARMS 技术

薄膜精度非常高

等离子体辅助反应式磁控溅射 (PARMS) 技术从具有高低折射率的金属靶材进行介质镀膜沉积。它将中频 (MF) 和射频 (RF) 溅射技术结合在两个磁控管上。从而实现了在原子级的高生产率、优级产品和精密度。

工件架上光学监控

在保障生产的同时实现较高的可重复性

我们的直接光学监控系统 LEYBOLD OPTICS OMS 5100 确保每层镀膜的精确度。还可增加一个自动更换系统,在不破坏真空条件的情况下更换光控测试片。所有这些均意味着,HELIOS 可在长时间无人看管的情况下运行,而不会影响产品质量。

您可以将 LMR 和 LPR 文件格式的光学设计迅速传输到生产工具中。该镀膜机可完全与许多各种不同的滤光片设计的生产匹配。有助于新产品快速制作样品,缩短上市时间。

共溅射可形成任意折射率,理论上可使用高低折射率溅射材料实现。这可提高工具灵活性,快速制作样品或提高产量。

定制 HELIOS 真空镀膜机,以满足您对产品、工艺和生产的需求。

关键主题

每天,数以亿计的人们都在享用布勒技术,以满足自己在食品、交通出行以及更多领域的日常所需。我们的座右铭是“布勒创新,驱动未来”。了解有关我们关键主题的更多信息。

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