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用于高精度膜层的溅射设备

HELIOS series

布勒 HELIOS 溅射镀膜机专为满足薄膜制备的高要求而设计。适用于线性激光、深度截止滤光片和陷波滤光片、激光器和啁啾镜、偏振片、分束器、生物传感器和 ADAS 传感器或消费电子产品。

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主要优点

设立新的性能标准

由于理想的氧化物薄层、较高的膜层密度和更低的膜层损耗,HELIOS 实现了卓越的激光镀膜损坏阈值、低散射和高反射率。这为膜层超过 200 层或膜层厚度最高 20µm 的滤光片设立了新的标杆。

为直接光学监控树立标杆

卓越的工艺稳定性实现超高的生产稳定性和无与伦比的可重复性。HELIOS 工具以其优于极薄层的厚度精度而闻名。

创新等离子体辅助反应式磁控溅射 (PARMS) 技术

等离子体辅助反应磁控溅射 (PARMS) 工艺技术确保对原子规模极薄层进行精确控制,为您带来品质卓越的产品和更高产量。

突出特点

PARMS 技术

高精度薄膜

先进的 PARMS(等离子体辅助反应磁控溅射)技术可以通过两个磁控管并结合中频 (MF) 和射频 (RF) 溅射技术,在具有高折射率和低折射率的金属靶材上沉积介电涂层。这使您能通过超高生产率获得尽如人意的优质产品,实现原子级的终极精度。

工件架上光学监控

实现无出其右的可重复性;为您的生产保驾护航。

布勒闻名的现场光学监控系统 LEYBOLD OPTICS OMS 5100 可确保每层镀膜的沉积过程都精确终止。对于较大的膜系和使用自动装料系统时,可以在不破坏真空的情况下更换玻璃样板。这意味着 HELIOS 工具可在不影响产品质量的情况下,长时间无人值守地运转。

从设计到生产

样品制作速度快

您可以将 LMR 和 LPR 文件格式的光学设计迅速传输到生产工具中。该镀膜机可完全与许多各种不同的滤光片设计的生产匹配。有助于新产品快速制作样品,缩短上市时间。

共溅射可形成任意折射率,理论上可使用高低折射率溅射材料实现。这可提高工具灵活性,快速制作样品或提高产量。

定制 HELIOS 真空镀膜机,以满足您对产品、工艺和生产的需求。

关键主题

每天,数以亿计的人们都在享用布勒技术,以满足自己在食品、交通出行以及更多领域的日常所需。我们的座右铭是“布勒创新,驱动未来”。了解有关我们关键主题的更多信息。

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