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精密光学真空镀膜

STARpro

STARpro反应式单一磁控溅射系统通过SI3N4和SIO2复合膜层的制备,在不同领域有着广泛的应用。此系统结构紧凑、易于安装,特别适合小批量滤光片的生产、样品快速制作和研发。

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主要优点

适用于小批量生产的多用途镀膜系统

凭借其设计紧凑、抽真空速度快以及仅需四个工件架的装载能力,STARpro 服务于小批量样品的快速制作和研发。

准确度高,重复性高

与集成 OMS 5100 直接光学监控系统相结合,整个设备经过精心设计,可在整个靶材使用寿命期内实现高准确度和高可重复性。

极易安装和操作

小工艺气瓶设置在机架内使用,设备只需连接电源和压缩空气即可启动生产。触摸屏界面操作简单。

突出特点

单独的进片腔室

高工艺稳定性,低颗粒污染

单独的装载锁定腔室确保持工艺腔室处于真空状态,避免粉尘颗粒和水汽的干扰。在工件架装载完毕后,腔室立即抽真空,装载腔和工艺腔体之间的阀门仅在压差很小或无压差情况下打开启,从而保证工艺腔内的粉尘颗粒极少。

可调节溅射距离

靶材可多次重复利用

在镀膜区,靶材与工件架之间的距离通过特殊设计电驱动系统精确调节。随着刻蚀剖面在靶材使用寿命期内加深,可通过距离缩短来保持镀膜均匀性。从而在整个靶材使用寿命期间内,产品质量的温定。

行星系统

通过工件架旋转实现高均匀性

STARpro开启溅射时,工件架在行星系统中旋转,从而提高镀膜均匀性,获得高品质膜层。

关键主题

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